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半自動晶圓刷洗機
TSC-100/300S
該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備,單工位單腔設計。該系列設備可集成PVA刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干等功能,集成度高,適用于各類半導體晶圓的CMP后清洗。
TSC-100
TSC-300s
工藝
單面刷洗
清洗工位
單腔單工位
上下片
手動
晶圓尺寸
2-6英寸
產(chǎn)品咨詢
Features
產(chǎn)品特點
兼容性好
4-8英寸 適用于多種材料的CMP后清洗
清洗工藝
預清洗-刷洗-兆聲噴淋-干燥
刷子類型
PVA 刷 單/雙面刷洗
PLC控制系統(tǒng)
觸摸屏操作
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